源归科技
A轮
已认证
上海成立于 2020
总融资额
0
万人民币
专利数
0
已授权专利
创始团队
2
人
产品与业务
源归科技
高纯度CVD/ALD前驱体,用于45nm-3nm先进制程,半导体材料进口替代。产品为化学气相沉积与原子层沉积薄膜工艺所需的前驱体源,以高纯度和高稳定性为核心特点,覆盖半导体先进制程用特种电子化学品,并向显示、纳米、新能源、催化等领域延伸。法液空ALIAD评价公司专注于先进材料的制造与规模化生产,称其具备快速规模化能力,将与液空的工业专长整合以服务电子市场客户。产品应用面向芯片制造薄膜沉积环节,支撑半导体关键材料国产化进口替代,并通过子公司苏州源展、苏州源起扩展材料业务布局。
产品亮点
源归科技(源归材料)是一家位于新材料领域的科技企业。高纯度CVD/ALD前驱体,用于45nm-3nm先进制程,半导体材料进口替代,2025年获法国液化空气集团风险投资部门ALIAD投资。
客户与合作伙伴
创始团队
奚斌
科学家创始人
核心团队成员
奚斌为美国普渡大学博士、哈佛大学博士后、中山大学教授
奚斌为美国普渡大学博士、哈佛大学博士后、中山大学教授
持股
娄夏冰
科学家创始人
核心团队成员
娄夏冰为哈佛大学化学博士
娄夏冰为哈佛大学化学博士
持股