普雨科技
C轮及以上
已认证
江苏成立于 2024
总融资额
0
万人民币
专利数
0
已授权专利
创始团队
1
人
产品与业务
普雨科技
纳米压印光刻(NIL)设备。相对EUV采购成本仅其数分之一、制造成本降低约40%,兼具超高分辨率与低能耗,被视为有望替代EUV的下一代光刻路线;自研对准精度、压印速率等核心模块,产品含ImprioVerse纳米压印设备与STPSENN步进重复式多功能平台,首台套已进入总装调试;公司为国内稀缺的半导体级纳米压印设备研发团队,作为唯一设备合作方参与张江实验室纳米压印项目
产品亮点
国产纳米压印光刻设备研发制造商。纳米压印光刻(NIL)设备。相对EUV采购成本仅其数分之一、制造成本降低约40%,兼具超高分辨率与低能耗,被视为有望替代EUV的下一代光刻路线;自研对准精度、压印速率等核心模块,产品含ImprioVerse纳米压印设备与STPSENN步进重复式多功能平台,首台套已进入总装调试。
客户与合作伙伴
关联科学家
创始团队
王亮
科学家创始人
创始人
王亮:中国科学技术大学教授·博导,普渡大学博士,前Lam Research主任工程师
王亮:中国科学技术大学教授·博导,普渡大学博士,前Lam Research主任工程师
持股