极刻光核

薄膜铌酸锂光子芯片IDM厂商。薄膜铌酸锂(TFLN)IDM平台。以特殊微纳加工工艺实现铌酸锂薄膜刻蚀,使波导侧壁极光滑,解决工业级量产的表面粗糙痛点;自研折叠型马赫-曾德尔调制器、分布式光强调制器、共面波导线电极结构等高速电光调制器与光芯片,用于高速光通信、可穿戴设备与汽车激光传感,产业化进度居世界前列。