普雨科技
国产纳米压印光刻设备研发制造商。纳米压印光刻(NIL)设备。相对EUV采购成本仅其数分之一、制造成本降低约40%,兼具超高分辨率与低能耗,被视为有望替代EUV的下一代光刻路线;自研对准精度、压印速率等核心模块,产品含ImprioVerse纳米压印设备与STPSENN步进重复式多功能平台,首台套已进入总装调试。
待评估
缺少样机、中试或量产阶段证据
战略/股权融资
原始口径：战略融资(2026-09核对更新)
半导体与集成电路
待核实
尚未收录专利或软著依据
评选判断
按照科研背景、技术创新、资本认可和赛道成长四个维度审阅
科研背景 · 30分
A级
教授、研究员或博导创办
技术创新 · 30分
依据已收录
关注首创性、量化指标和验证阶段
资本认可 · 25分
战略/股权融资
依据融资轮次、机构与持续跟投
赛道成长 · 15分
半导体与集成电路
关注市场空间、景气度与产业化路径
核心技术与产品
技术路线与产品形态
纳米压印光刻(NIL)设备。相对EUV采购成本仅其数分之一、制造成本降低约40%,兼具超高分辨率与低能耗,被视为有望替代EUV的下一代光刻路线;自研对准精度、压印速率等核心模块,产品含ImprioVerse纳米压印设备与STPSENN步进重复式多功能平台,首台套已进入总装调试;公司为国内稀缺的半导体级纳米压印设备研发团队,作为唯一设备合作方参与张江实验室纳米压印项目
技术栈
技术栈待补充
量化技术指标
量化技术指标待补充
独立创新点
- 国产纳米压印光刻设备研发制造商。纳米压印光刻(NIL)设备。相对EUV采购成本仅其数分之一、制造成本降低约40%,兼具超高分辨率与低能耗,被视为有望替代EUV的下一代光刻路线;自研对准精度、压印速率等核心模块,产品含ImprioVerse纳米压印设备与STPSENN步进重复式多功能平台,首台套已进入总装调试。
市场与竞争
目标细分
国产纳米压印光刻设备研发制造商。纳米压印光刻(NIL)设备。相对EUV采购成本仅其数分之一、制造成本降低约40%,兼具超高分辨率与低能耗,被视为有望替代EUV的下一代光刻路线;自研对准精度、压印速率等核心模块,产品含ImprioVerse纳米压印设备与STPSENN步进重复式多功能平台,首台套已进入总装调试。 创始人/核心团队:王亮(王亮:中国科学技术大学教授·博导,普渡大学博士,前Lam Research主任工程师);所属赛道:半导体与集成电路;提名/投资机构:元禾原点
市场容量
市场容量待补充
竞争对手
竞争对手待补充
竞争优势
竞争优势待补充
商业模式
收入模式
收入模式待补充
定价策略
定价策略待补充
获客渠道
获客渠道待补充
融资信息
当前融资阶段
战略融资(2026-09核对更新)
计划融资金额
计划融资金额待补充
融资历程
- 天使轮 2024(蓝驰创投) → A轮 2024.10(元禾原点、招商局创投、元禾控股、水木创投、蓝驰创投、上海科创基金) → B轮 2025.11(启赋资本、科学城创投、苏州国发创投) → B+轮 2026.03(数亿元(累计),普丰资本、零一创投)
资金用途
资金用途待补充
待补充的关键评审证据
以下内容缺失不会自动扣分，但会影响评分可信度和项目横向比较。