埃瑞微半导体
国产半导体前道套刻量检测设备供应商。集成电路前道工艺量检测设备,主打以套刻误差(Overlay)为核心的套刻量测装备及缺陷检测设备,为光刻大批量生产提供眼睛与尺子;设备误差需控制在允许误差的1/10(9nm套刻误差对应0.9nm),直接影响光刻良率;面向16nm以下先进制程需求;团队来自美国KLA上海研发中心、中科院微电子所与清华精仪系。
待评估
缺少样机、中试或量产阶段证据
Pre-A/A轮
原始口径：Pre-A+轮
半导体与集成电路
待核实
尚未收录专利或软著依据
评选判断
按照科研背景、技术创新、资本认可和赛道成长四个维度审阅
科研背景 · 30分
A级
教授、研究员或博导创办
技术创新 · 30分
依据已收录
关注首创性、量化指标和验证阶段
资本认可 · 25分
Pre-A/A轮
依据融资轮次、机构与持续跟投
赛道成长 · 15分
半导体与集成电路
关注市场空间、景气度与产业化路径
核心技术与产品
技术路线与产品形态
集成电路前道工艺量检测设备,主打以套刻误差(Overlay)为核心的套刻量测装备及缺陷检测设备,为光刻大批量生产提供眼睛与尺子;设备误差需控制在允许误差的1/10(9nm套刻误差对应0.9nm),直接影响光刻良率;面向16nm以下先进制程需求;团队来自美国KLA上海研发中心、中科院微电子所与清华精仪系。路线:IBO用于28~14nm、DBO用于20~10nm;关键指标Precision<0.6nm;企业称前道量检测设备被KLA垄断(占有率56%)、国产套刻设备占有率<5%。
技术栈
技术栈待补充
量化技术指标
量化技术指标待补充
独立创新点
- 国产半导体前道套刻量检测设备供应商。集成电路前道工艺量检测设备,主打以套刻误差(Overlay)为核心的套刻量测装备及缺陷检测设备,为光刻大批量生产提供眼睛与尺子;设备误差需控制在允许误差的1/10(9nm套刻误差对应0.9nm),直接影响光刻良率;面向16nm以下先进制程需求;团队来自美国KLA上海研发中心、中科院微电子所与清华精仪系。
市场与竞争
目标细分
国产半导体前道套刻量检测设备供应商。集成电路前道工艺量检测设备,主打以套刻误差(Overlay)为核心的套刻量测装备及缺陷检测设备,为光刻大批量生产提供眼睛与尺子;设备误差需控制在允许误差的1/10(9nm套刻误差对应0.9nm),直接影响光刻良率;面向16nm以下先进制程需求;团队来自美国KLA上海研发中心、中科院微电子所与清华精仪系。 创始人/核心团队:段洪伟、盖洪峰(盖洪峰:清华大学精密仪器系博士,原中国科学院微电子研究所研究员);所属赛道:半导体与集成电路;提名/投资机构:社会公开征集
市场容量
市场容量待补充
竞争对手
竞争对手待补充
竞争优势
竞争优势待补充
商业模式
收入模式
收入模式待补充
定价策略
定价策略待补充
获客渠道
获客渠道待补充
融资信息
当前融资阶段
Pre-A+轮
计划融资金额
计划融资金额待补充
融资历程
- 种子轮 2024.01(数千万元,源码资本、险峰长青、卓源亚洲、锡创投) → 种子+轮 2024.03(金雨茂物领投) → Pre-A轮 2024.08(卓源亚洲、金雨茂物) → Pre-A+轮 2024.11(无锡高新区投控集团、复琢投资)
资金用途
资金用途待补充
待补充的关键评审证据
以下内容缺失不会自动扣分，但会影响评分可信度和项目横向比较。