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平面超透镜量产全球领导者,全球首条超透镜量产线,拥有500+项知识产权、研发硕博占比100%。以半导体工艺经微纳结构调制相位成像;工艺为第四代浸入式12英寸硅基/玻璃基光刻(40nm)与纳米压印(20nm)。产品覆盖可见光到红外波段,含FIR/NIR/VIS三系列超透镜,应用于消费电子/汽车/安防/工业检测/AR-VR。批量成本为传统透镜25%以下;晶圆视场26mm×33mm、拼接误差<7nm。壁垒为七项专利;国外Metalenz等仍处研发、无量产,国内传统光学厂商无同类。