候选项目库

纳米压印光刻(NIL)设备。相对EUV采购成本仅其数分之一、制造成本降低约40%,兼具超高分辨率与低能耗,被视为有望替代EUV的下一代光刻路线;自研对准精度、压印速率等核心模块,产品含ImprioVerse纳米压印设备与STPSENN步进重复式多功能平台,首台套已进入总装调试;公司为国内稀缺的半导体级纳米压印设备研发团队,作为唯一设备合作方参与张江实验室纳米压印项目

先进封装与化合物半导体材料,专注于集成电路先进封装关键材料研发生产销售。自主研发晶圆减薄临时键合材料已成功导入国内集成电路封测龙头企业,全面支撑终端应用企业规模化量产,彻底打破发达国家长期垄断。申请临时键合材料相关发明专利70余件获授权20余件/PCT2件

公司技术路线覆盖ArF与KrF(248nm)准分子激光光源,核心技术包括高功率准分子激光、高压脉冲电源、精密光学与控制系统,已掌握重频4kHz的193nm光刻光源核心技术。2020年交付国内首台40kW ArF光刻光源,支持28nm制程节点,打破美系长期垄断。产品矩阵包括RS222型光刻准分子激光器、KrF光源、IC检测激光器及OLED激光剥离设备(市占率70%以上),并启动LPP-EUV极紫外光源预研;配套建设总投资5亿元、年产30台(套)的光刻光源制造基地,产品应用于DUV光刻机光源系统。